목차 서론 실험목적 실험 이론 본론 Auto CAD Photolithography Process Cell Process 결론 실험결과 및 고찰 본문 서론 ▶ 실험 목적 Auto CAD 프로그램으로 자신이 직접 디자인한 Mask를 그려본다. 장비를 이용하여 포통공정과 셀공정에 대해 배우고, 직접 장비를 사용하여 익혀본다. ▶ 실험 이론 우리가 실험에서 쓰인 TN N/W mode에 대해서 간단히 설명하였다. Cell 구조 TN LCD 동작 원리 TN mode의 장점 : 높은 개구율 및 투과율, 양산 잡음에 둔감 TN mode의 단점 : 잔류 retardation이 존재, 느린 응답속도 키워드 실험레포트, 실험레, 공정, 포트 |
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